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Japanischen Forschern ist es erstmalig gelungen, dünne Filme aus Silizium für mikroelektronische Schaltungen im Sprühverfahren zu erzeugen. Bei dem Verfahren sprühten die Wissenschaftler das Silizium in einer speziellen Lösung entweder aus der Düse eines Tintenstrahldruckers auf das Trägermaterial oder sie verteilten die Siliziumlösung durch Rotation auf dem Träger.

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